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含單陰離子配體過渡金屬配合物及其制備方法和應用

665 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 00:08:18

本發(fā)明屬于過渡金屬配合物的制備領域，涉及一種含單陰離子配體過渡金屬配合物及其制備方法和應用。該含單陰離子配體過渡金屬配合物的通式為：L(V＝O)X2，其中，L為氮負離子配體，X選自鹵素，該配合物的制備方法包括如下步驟：配體原料與三甲基氯硅烷反應，得到含三甲基硅基取代的化合物；將得到的含三甲基硅基取代的化合物和等當量的VOX3反應，得到所述含單陰離子配體過渡金屬配合物。本發(fā)明的優(yōu)點如下：不需要使用昂貴且危險的烷基鋰試劑，得到含氮負離子配體的過渡金屬釩配合物，制備工藝路線簡單(兩步反應)，反應條件溫和，產(chǎn)率高，成本低。

聲明：

“含單陰離子配體過渡金屬配合物及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)