根據(jù)本發(fā)明的清洗裝置具有:清洗部(121),具有氣穴噴射裝置,在保持基本水平的狀態(tài),在沿縱向輸送的帶狀金屬薄板的上面及下面,噴出對該帶狀金屬薄板是惰性的清洗液,在上述金屬薄板的表面附近發(fā)生氣穴,進(jìn)行急速的清洗;第1防漏密封部(124),設(shè)置在所述清洗部的前段,制約該金屬薄板的位置,而且防止所述清洗液在與該金屬薄板輸送方向相反方向漏出。采用這樣的清洗裝置進(jìn)行腐蝕后的清洗,由此可以急速地稀釋除去殘留于光刻膠膜檐部內(nèi)側(cè)的腐蝕液,因而可以防止開孔尺寸、形狀的偏差。
聲明:
“蔭罩的制造方法、蔭罩的制造裝置及其所用的清洗裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)