本發(fā)明屬于復(fù)合薄膜材料制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種鋰離子電池用的硅碳薄膜
負極材料及其制備方法。本發(fā)明在室溫條件下采用射頻磁控濺射技術(shù)和直流磁控濺射技術(shù),在集流體上制備了硅薄膜和碳薄膜交替堆疊的結(jié)構(gòu),交替堆疊結(jié)構(gòu)的層數(shù)為2~4層,硅薄膜先沉積在集流體上,與集流體直接接觸。本發(fā)明通過工藝簡單的磁控濺射沉積技術(shù)在集流體上一步法直接濺射生長活性物質(zhì)硅碳薄膜,省去了傳統(tǒng)電極制備過程中粘結(jié)劑的使用,以及輥壓、涂覆、烘干等步驟,減少了制作工序和成本,此外,碳薄膜作為填充物質(zhì)和導(dǎo)電劑,有效地解決了純硅薄膜電極循環(huán)性能差的不足,提高了電極的循環(huán)穩(wěn)定性。
聲明:
“硅碳薄膜負極材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)