本發(fā)明提供一種磁盤用微晶玻璃基片,適用于接 觸記錄方式,具有10以下的表面粗糙度和較高的磨損性?;?片的構(gòu)成是,微晶玻璃的主結(jié)晶相為α-方晶石(α-SiO2)和 二硅酸鋰(Li2O·2SiO2),該結(jié)晶相的構(gòu)成比α-方晶石/二硅 酸鋰為0.25-0.35,晶粒的粒徑為0.1-1.0μm,磁盤基片的 研磨表面粗糙度(Ra)為2-10,且,磨損度(Aa)為5-15之 間。
聲明:
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