提供了一種用于減輕DC偏壓漂移的鈮酸鋰調(diào)制器結(jié)構(gòu)(30),其包括圖形化在具有一個(gè)或多個(gè)DC部分(38,40)和RF部分(42)的光波導(dǎo)(34)上的重?fù)诫s半導(dǎo)體層(44,54),其中金屬層或觸點(diǎn)(50)與半導(dǎo)體層(44,54)的一部分相接觸并且在RF部分(42)中淀積緩沖層(46)。還提供了一種用于制作具有上述結(jié)構(gòu)的鈮酸鋰光電調(diào)制器的方法。
聲明:
“具有基于摻雜半導(dǎo)體金屬接觸的偏壓電極的用于減輕DC偏壓漂移的光電調(diào)制器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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