本發(fā)明公開了一種復(fù)合單晶薄膜和制造復(fù)合單晶薄膜的方法。所述復(fù)合單晶薄膜包括:襯底;光學(xué)隔離層,位于襯底上;鈮酸鋰單晶薄膜或鉭酸鋰單晶薄膜,位于光學(xué)隔離層上;硅薄膜,位于鈮酸鋰單晶薄膜或鉭酸鋰單晶薄膜上。根據(jù)本發(fā)明的復(fù)合單晶薄膜具備鈮酸鋰或鉭酸鋰材料良好的非線性光學(xué)、聲光、電光等效應(yīng),同時還具備硅材料的加工工藝成熟的特性,因此本發(fā)明的復(fù)合單晶薄膜能夠與現(xiàn)有的IC生產(chǎn)工藝實現(xiàn)更好的兼容,具有非常廣闊的產(chǎn)業(yè)前景。此外,根據(jù)本發(fā)明的制造復(fù)合單晶薄膜的方法能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定、有效的工業(yè)化生產(chǎn)。
聲明:
“復(fù)合單晶薄膜和制造復(fù)合單晶薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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