本實用新型涉及基片清洗領(lǐng)域,具體涉及一種用于清洗鈮酸鋰基片的裝置。其具體方案如下:該清洗裝置為一圓柱形開放式空腔,在空腔的內(nèi)壁面上開設有插槽,同時在空腔的開口側(cè)面上設置有定位栓用以固定其后插入的基片。本實用新型的優(yōu)點是,清洗效率高,清洗潔凈度高,并且操作簡便。
聲明:
“用于清洗鈮酸鋰基片的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)