本發(fā)明用離子注入和退火制備鈮酸鋰晶體波導 的方法,至少應包含離子注入和電子束退火等步驟。采用能量1MeV~6MeV的C+,Cu+等離子注入,注入劑量在1×1013離子/平方厘米到5×1015離子/平方厘米范圍內(nèi),在注入?yún)^(qū)內(nèi)造成折射率的改變,然后利用聚焦電子束或者激光束掃描,使掃描區(qū)的折射率增高,形成埋層或者溝道形式的光波導。光波導的導波模式可以由工藝參數(shù)控制。該方法的線寬可以達到納米量級??梢灾瞥苫跅l形波導結(jié)構(gòu)的光器件和折射率光柵。
聲明:
“用離子注入和退火制備鈮酸鋰晶體波導的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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