本發(fā)明公開了一種適用于退火質(zhì)子交換工藝的鈮酸鋰清洗方法,在退火質(zhì)子交換法制備鈮酸鋰相位調(diào)制器
芯片的制備介質(zhì)掩模工藝和質(zhì)子交換工藝之間以及質(zhì)子交換工藝和退火工藝之間增設(shè)徹底清洗晶圓工藝,所述徹底清洗晶圓工藝包括以下步驟:將晶圓置于濃硫酸雙氧水洗液中浸泡;置于無水乙醇中加熱并進行超聲處理;置于丙酮中加熱并進行超聲處理;置于RCA一號洗液中加熱并進行兆聲超聲處理;置于RCA二號洗液中加熱恒溫處理;采用去離子水兆聲噴灑。本發(fā)明采用濃硫酸雙氧水混合洗液替代鉻酸洗液,避免了鉻酸洗液中大量的金屬離子雜質(zhì)污染襯底,同時也達到去除有機污染物的目的。
聲明:
“適用于退火質(zhì)子交換工藝的鈮酸鋰清洗方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)