本發(fā)明屬于材料制備和分離技術(shù)領(lǐng)域,涉及鋰/銣離子雙吸附材料的制備,尤其涉及一種印跡多孔吸附材料的制備方法及其應(yīng)用。本發(fā)明先對(duì)
碳納米管進(jìn)行羥基化處理,通過3?縮水甘油基氧基丙基三甲氧基
硅烷KH560中硅連接的三甲氧基與碳納米管上的羥基發(fā)生反應(yīng),引入環(huán)氧基團(tuán);再與印跡對(duì)叔丁基杯[4]芳烴IC4A的酚羥基開環(huán)復(fù)合,得到印跡多孔吸附材料。對(duì)叔丁基杯[4]芳烴的絡(luò)合效果結(jié)合離子印跡技術(shù),能夠?qū)︿?銣離子進(jìn)行高效的選擇性雙吸附。本發(fā)明還公開了將所制得材料應(yīng)用于鹽湖鹵水中鋰離子和銣離子的吸附。本發(fā)明所述方法操作較為簡(jiǎn)單,所制得印跡多孔吸附材料結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,比表面較大,再結(jié)合離子印跡技術(shù),可以增加材料的吸附位點(diǎn),提高材料的吸附性能。
聲明:
“印跡多孔吸附鋰/銣離子材料的制備方法及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)