本發(fā)明公開了一種薄膜鈮酸鋰表面制備微納器件的方法,包括:在清洗、烘干后的薄膜鈮酸鋰襯底的上、下表面分別形成鉻膜,作為上表面的掩膜和下表面的保護(hù)層;將光刻板圖形轉(zhuǎn)移到上表面掩膜上,而后將襯底放入質(zhì)子交換爐中進(jìn)行質(zhì)子交換;將質(zhì)子交換后的襯底冷卻后,使用保護(hù)材料對襯底四周進(jìn)行密封;將密封后的薄膜鈮酸鋰襯底放入氫氟酸和硝酸的混合溶液中進(jìn)行濕法刻蝕;去除上表面的掩膜、下表面的保護(hù)層以及四周的密封,將襯底劃片解理后使用化學(xué)機(jī)械拋光工藝進(jìn)行端面處理。本發(fā)明采用質(zhì)子交換工藝結(jié)合濕法工藝對薄膜鈮酸鋰材料刻蝕以制備微納器件,可大大加快鈮酸鋰的刻蝕速率,得到性能優(yōu)異、表面粗糙度低的薄膜鈮酸鋰基微納器件。
聲明:
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