本發(fā)明屬于存儲材料制備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種鈮酸鋰材料刻蝕及提高側(cè)壁角度的優(yōu)化方法。本發(fā)明方法包括:硬掩膜制作、傾斜刻蝕、金屬黑化修正側(cè)壁以及濕法腐蝕清洗。與傳統(tǒng)的直接利用干法刻蝕鈮酸鋰圖形不同,本方法將干法刻蝕與濕法刻蝕相結(jié)合,不僅能夠獲得刻蝕角度陡直、側(cè)壁光滑的鈮酸鋰圖形,而且刻蝕效率也極高,同時可對鈮酸鋰圖形進行后期修正。本發(fā)明方法對基于鈮酸鋰材料的納米加工具有極大意義,并且不會破壞材料的鐵電特性。
聲明:
“鈮酸鋰材料刻蝕及提高側(cè)壁角度的優(yōu)化方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)