本發(fā)明提供了一種用于鈮酸鋰材料的刻蝕方法,所述刻蝕方法包括:提供鈮酸鋰基片;提供工藝氣體,所述工藝氣體包括氯基氣體;對(duì)所述工藝氣體進(jìn)行電離獲得等離子體,并對(duì)所述鈮酸鋰基片進(jìn)行刻蝕。所述用于鈮酸鋰材料的刻蝕方法可以提高刻蝕速率且使刻蝕面光滑平整。
聲明:
“用于鈮酸鋰材料的刻蝕方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)