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能夠控制鈮酸鋰波導側(cè)壁傾角的刻蝕方法

819 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-18 21:29:42

本發(fā)明涉及一種能夠控制鈮酸鋰波導側(cè)壁傾角的刻蝕方法，包括：提供預先制備的LNOI片作為襯底；在LNOI片的表面沉積SiO2層，作為刻蝕波導層的SiO2硬掩模；在SiO2層的表面旋涂雙層電子束膠，并在LNOI片上限定出波導圖案；在雙層電子束膠的表面以及曝光出波導圖案的區(qū)域沉積金屬層，并將波導圖案轉(zhuǎn)移至金屬層，作為刻蝕SiO2層的金屬硬掩模；使用SF6和O2的混合氣體對SiO2層進行刻蝕，并去除剩余的金屬硬掩模；使用氯基氣體和氬氣的混合氣體對波導層進行刻蝕，并調(diào)節(jié)氯基氣體和氬氣的比例，以對鈮酸鋰波導的側(cè)壁傾角進行控制；去除剩余的SiO2硬掩模，并使用RCA標準清洗法進行清洗，獲取最終的基于LNOI的鈮酸鋰波導。

聲明：

“能夠控制鈮酸鋰波導側(cè)壁傾角的刻蝕方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)