本發(fā)明涉及一種基于鈮酸鋰薄膜的寬帶行波電光調(diào)制器,該調(diào)制器包括:基底、鈮酸鋰薄膜、光學(xué)波導(dǎo)、緩沖層以及金屬電極。所屬基底采用石英晶片;所述鈮酸鋰薄膜具有單晶結(jié)構(gòu)且厚度為4至10微米;所述光學(xué)波導(dǎo)采用鈦擴(kuò)散波導(dǎo)或退火質(zhì)子交換波導(dǎo);所述緩沖層采用氧化硅或
氧化鋁薄膜;所述金屬電極采用行波電極結(jié)構(gòu),金屬電極的火線與地線對(duì)稱(chēng)地位于光學(xué)波導(dǎo)的兩側(cè)。本發(fā)明的有益技術(shù)效果在于:可同時(shí)實(shí)現(xiàn)鈮酸鋰電光調(diào)制器的折射率匹配與阻抗匹配,提高器件的工作帶寬,且未增加器件的半波電壓,可有效地降低鈮酸鋰寬帶電光調(diào)制器的生產(chǎn)成本。
聲明:
“基于鈮酸鋰單晶薄膜的寬帶行波電光調(diào)制器” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)