本發(fā)明公開了一種基于低折射率高介電常數(shù)的薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器,屬于光通信器件技術(shù)領(lǐng)域。器件從下往上依次包括:襯底層、埋氧層、器件層、波導(dǎo)包覆層,所述器件層依次包括鈮酸鋰光波導(dǎo)、包層介質(zhì)、電極組,所述包層介質(zhì)的介電常數(shù)高于波導(dǎo)包覆層的介電常數(shù),且所述包層介質(zhì)的折射率低于鈮酸鋰光波導(dǎo)的折射率。本發(fā)明的調(diào)制器,通過在鈮酸鋰器件層和包覆層之間引入包層介質(zhì),因其具有較高的射頻介電常數(shù),且在通訊波段具有很高的光學(xué)透明度,使得在不引入額外光學(xué)損耗的前提下,增加了鈮酸鋰波導(dǎo)中的射頻信號的電場分壓,從而提高了電光調(diào)制效率。同時具有損耗低、結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點。
聲明:
“基于低折射率高介電常數(shù)的薄膜鈮酸鋰電光調(diào)制器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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