本發(fā)明公開了一種基于特氟龍材料緩沖層的新型寬帶鈮酸鋰電光調(diào)制器,自下而上依次包括:基底材料、光學(xué)波導(dǎo)、緩沖層、電極結(jié)構(gòu),所述緩沖層采用厚度為0.1um至5um的特氟龍材料,所述光學(xué)波導(dǎo)采用鈦擴(kuò)散光學(xué)波導(dǎo)或退火質(zhì)子交換光學(xué)波導(dǎo),波導(dǎo)擴(kuò)散寬度為1至20μm,擴(kuò)散深度為1至20μm。本申請利用特氟龍材料的低介電常數(shù)特性,使鈮酸鋰寬帶電光調(diào)制器的工作帶寬得以進(jìn)一步提高,提升了器件性能指標(biāo),并克服了當(dāng)前鈮酸鋰脊型波導(dǎo)電光調(diào)制器存在的二氧化硅緩沖層需進(jìn)行平坦化處理的工藝難點(diǎn),降低了鈮酸鋰寬帶電光調(diào)制器的加工難度和成本,提升了產(chǎn)品合格率。
聲明:
“基于特氟龍材料緩沖層的新型寬帶鈮酸鋰電光調(diào)制器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)