本發(fā)明公開了一種光纖陀螺用鈮酸鋰光波導(dǎo)掩膜及其制備方法和應(yīng)用,該方法包括以下步驟:在鈮酸鋰基片上制作二氧化硅薄膜后,然后在二氧化硅薄膜表面涂布負性光刻膠,再進行光刻,形成光刻膠圖案;將形成光刻膠圖案的鈮酸鋰基片進行紫外老化、熱老化,再對熱老化后的鈮酸鋰基片進行清洗、刻蝕,最后去除光刻膠,制得光纖陀螺用鈮酸鋰光波導(dǎo)掩膜。本發(fā)明降低了二氧化硅掩膜邊緣的粗糙度,減少了波導(dǎo)窗口處點狀缺陷的數(shù)量,在不增加額外設(shè)備的前提下,提升了二氧化硅掩膜質(zhì)量,降低了質(zhì)子交換鈮酸鋰光波導(dǎo)的散射損耗,其散射損耗為0.04?0.07dB/cm,達到了降低器件插入損耗、降低殘余強度調(diào)制、提升高低溫穩(wěn)定性的目的。
聲明:
“光纖陀螺用鈮酸鋰光波導(dǎo)掩膜及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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