本實用新型公開的磁電天線的層合結(jié)構(gòu),包括Si襯底,Si襯底上依次連接有Mo電極層、AIN壓電層和FeGa磁致伸縮層,Si襯底與Mo電極層接觸面之間開有空氣槽。本實用新型采用2?2層疊型磁電
復(fù)合材料較其他結(jié)構(gòu)類型具有低漏電、易合成、磁電耦合能力強(qiáng)的優(yōu)點;本實用新型采用空氣隙型FBAR作為諧振結(jié)構(gòu),機(jī)械牢度更好,制備時更易達(dá)到精度要求。
聲明:
“磁電天線的層合結(jié)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)