本發(fā)明涉及改進(jìn)的EUV反射元件,包括:a)第一層,基本上由高反射性材料制成;b)第二層,厚度≤5nm,基本上由耐濺射性≤10nm/108次射擊的材料制成,并且由此第二層被設(shè)置在入射的和/或反射的EUV光的路徑中。
聲明:
“包含耐濺射材料的極端紫外線(xiàn)輻射反射元件” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)