本發(fā)明公開了一種紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法,主要是針對以聚二甲基硅氧烷(PDMS)彈性體為基底,旋涂溶有一定質(zhì)量分?jǐn)?shù)可降解高分子的有機(jī)溶劑溶液構(gòu)筑的軟硬復(fù)合體系,并通過施加外界應(yīng)力使其表面產(chǎn)生皺紋形貌;然后,利用高分子薄膜的光降解反應(yīng),引起膜/基復(fù)合系統(tǒng)中應(yīng)力場的擾動和松弛,從而實現(xiàn)表面皺紋圖案的消除。對已有的表面皺紋進(jìn)行紫外光照,通過改變光照劑量等實驗參數(shù),控制光照劑量與界面殘余應(yīng)力的相對大小,可以調(diào)控復(fù)合體系表面皺紋的消除與否。本方法操作簡便,潔凈高效,在
復(fù)合材料領(lǐng)域防止材料失效和提高材料使用壽命方面有著廣泛的應(yīng)用前景。
聲明:
“紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)