本發(fā)明提供了一種甲殼素@MXene@Ni鏈薄膜材料及其制備方法和應用,本專利中以甲殼素,少層MXene以及Ni鏈為原料,薄膜材料包括以下質(zhì)量份數(shù)比組成:甲殼素:MXene:Ni鏈=50:(20~30):(30~50),通過抽濾及熱壓最終獲得了甲殼素@MXene@Ni鏈薄膜。該
復合材料制備方法具有穩(wěn)定、可控、簡單易操作的特點,且該材料具備厚度薄、電磁波屏蔽能力強的特點。因此,本發(fā)明為工業(yè)生產(chǎn)電磁波屏蔽材料的設計與合成提供了一種新型思路。
聲明:
“甲殼素@MXene@Ni鏈薄膜材料及其制備方法和應用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)