本發(fā)明公開了一種可重復(fù)書寫的抗劃薄膜及其制備方法,其制備方法包括以下步驟:將改性SiO2?TiO2納米
復(fù)合材料、線性低密度聚乙烯和氧化聚乙烯混合置于高速攪拌機(jī)中,攪拌速度為600?800rpm,溫度為110℃,攪拌混合20?30min,之后通過雙螺桿擠出機(jī)擠出切粒,制得
納米材料母粒;將納米材料母粒,高密度聚乙烯,醋酸乙烯?乙烯共聚物混合均勻,置于塑料吹塑成型機(jī)中,吹制成聚乙烯薄膜。該薄膜便于書寫,并且易于擦除,可重復(fù)使用。并且該薄膜表面耐劃擦,使用壽命較長。
聲明:
“可重復(fù)書寫的抗劃薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)