本發(fā)明提供一種激光沉積系統(tǒng),包括激光源、一驅(qū)動機構(gòu)、一第一反射鏡、至少兩個第二反射鏡、真空室、至少兩個用于固定不同的源材料靶材的第一固定平臺以及用于沉積
復(fù)合材料的基片;第一固定平臺以及基片均設(shè)置于所述真空室內(nèi),至少兩個固定平臺分別與所述基片的預(yù)設(shè)區(qū)域相對,真空室設(shè)置有通光部,第二反射鏡與所述第一反射鏡平行,激光源與第一反射鏡的出光方向呈預(yù)設(shè)夾角;驅(qū)動機構(gòu)與所述第一反射鏡連接,以驅(qū)動第一反射鏡沿著所述激光源的出光方向移動,所述第一反射鏡用于將所述激光源發(fā)出的光反射至所述至少兩個第二反射鏡中的一個第二反射鏡,進而使得第二反射鏡將第一反射鏡反射的激光通過所述通光部反射至對應(yīng)的所述第一固定平臺。
聲明:
“激光沉積系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)