4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用,復(fù)合材料"> 4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用,本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料合成技術(shù)領(lǐng)域,涉及復(fù)合電極的制備,尤其涉及一種Cu?MOF/BiVO4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明首先采用電化學(xué)沉積和煅燒法在FTO基底上制備出蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO?,然后再通過(guò)電化學(xué)沉積法在BiVO?表面上可控負(fù)載一層Cu?O,最后借助水熱合成法將Cu?O與有機(jī)配體反應(yīng),原位在BiVO?表面引入超薄Cu?MOF薄膜。還可將其作為工作電極應(yīng)用于光電化學(xué)分解水反應(yīng)。本發(fā)明通過(guò)簡(jiǎn)單可行的方法在蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO4表面負(fù)載超薄Cu?">

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Cu-MOF/BiVO4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用

632   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:42:11
本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料合成技術(shù)領(lǐng)域,涉及復(fù)合電極的制備,尤其涉及一種Cu?MOF/BiVO4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明首先采用電化學(xué)沉積和煅燒法在FTO基底上制備出蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO?,然后再通過(guò)電化學(xué)沉積法在BiVO?表面上可控負(fù)載一層Cu?O,最后借助水熱合成法將Cu?O與有機(jī)配體反應(yīng),原位在BiVO?表面引入超薄Cu?MOF薄膜。還可將其作為工作電極應(yīng)用于光電化學(xué)分解水反應(yīng)。本發(fā)明通過(guò)簡(jiǎn)單可行的方法在蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO4表面負(fù)載超薄Cu?MOF,可有效提高光電極的電子和空穴的分離效率,并增強(qiáng)其對(duì)可見(jiàn)光的捕獲能力,最終實(shí)現(xiàn)一類可將太陽(yáng)能?化學(xué)能高效轉(zhuǎn)換的新型復(fù)合光電極的構(gòu)建,具有優(yōu)秀的光電化學(xué)性能和良好的化學(xué)穩(wěn)定性;本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,重復(fù)性好,符合環(huán)境友好要求。
聲明:
“Cu-MOF/BiVO4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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