4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用,復(fù)合材料"> 4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用,本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料合成技術(shù)領(lǐng)域,涉及復(fù)合電極的制備,尤其涉及一種Cu?MOF/BiVO4復(fù)合光電極的制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明首先采用電化學(xué)沉積和煅燒法在FTO基底上制備出蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO?,然后再通過(guò)電化學(xué)沉積法在BiVO?表面上可控負(fù)載一層Cu?O,最后借助水熱合成法將Cu?O與有機(jī)配體反應(yīng),原位在BiVO?表面引入超薄Cu?MOF薄膜。還可將其作為工作電極應(yīng)用于光電化學(xué)分解水反應(yīng)。本發(fā)明通過(guò)簡(jiǎn)單可行的方法在蠕蟲狀結(jié)構(gòu)的BiVO4表面負(fù)載超薄Cu?">
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