本發(fā)明涉及一種交疊結(jié)構(gòu)納米片層材料,由金屬有機(jī)框架納米片層和
石墨烯基材料片層疊合或交替疊合而成的復(fù)合片層結(jié)構(gòu);每層金屬有機(jī)框架納米片層的厚度為1?5nm;每層石墨烯基材料片層的厚度為1?10nm;復(fù)合片層的厚度為2?100nm。
復(fù)合材料可用于電催化反應(yīng)、物質(zhì)吸收釋放以及氣體分離。
聲明:
“交疊結(jié)構(gòu)納米片層材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)