本發(fā)明提供了一種金屬負(fù)載碳/聚合物基電磁屏蔽材料及其制備方法,屬于電磁屏蔽材料制備領(lǐng)域,具體包括:將CoFe
2O
4納米粉末修飾MoS
2在上,得到MoS
2@CoFe
2O
4納米粉末,再負(fù)載在
石墨烯微片上,再通過聚氨基甲酸酯浸漬,再熔融負(fù)載在聚丙交酯上,再通過真空滲透填充PBAT得到電磁屏蔽
復(fù)合材料,所述MoS
2@CoFe
2O
4納米粉末含量為8?10wt%,所述石墨烯微片含量為12?15wt%,所述聚氨基甲酸酯含量為5?8wt%,所述PBAT含量為8?10wt%,余量為聚丙交酯,其中,MoS
2@CoFe
2O
4納米粉末中Mo、Co、Fe的摩爾比為1?1.5:2:1:1.2。本發(fā)明提供的金屬負(fù)載碳/聚合物基電磁屏蔽材料,通過金屬負(fù)載在材料上,可填充碳/聚合物基電磁屏蔽材料的位格缺陷,提升電磁屏蔽材料的電磁屏蔽效率,通過PU浸漬和PBAT滲透提升材料的機(jī)械性能。
聲明:
“金屬負(fù)載碳/聚合物基電磁屏蔽材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)