權(quán)利要求
1.一種真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,包括如下步驟:
在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu);
將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,并在所述真空感應(yīng)爐的外部,對應(yīng)于每個所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)均設(shè)置相應(yīng)的控制電源柜;
將每個所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭與所述相應(yīng)的控制電源柜的出線端連接,完成對所述真空感應(yīng)爐的電源配置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述在真空感應(yīng)爐的坩堝外側(cè)壁上,沿豎直方向排列套設(shè)至少兩個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu),包括:
根據(jù)所述坩堝的加熱位置面積和預(yù)設(shè)真空電壓限值,設(shè)計所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的布設(shè)方案;其中,所述布設(shè)方案包括所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的數(shù)量和每個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)在所述坩堝外側(cè)壁上的位置;
根據(jù)所述布設(shè)方案,由上至下依次將所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個單體IGBT或至少兩個并聯(lián)的單體IGBT或至少兩個串聯(lián)的單體IGBT。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括一個可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,在所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈的外部設(shè)置有磁軛。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,
當(dāng)所述獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)包括至少兩個并聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈或至少兩個串聯(lián)的可控硅真空電源感應(yīng)線圈時,每個所述可控硅真空電源感應(yīng)線圈到相應(yīng)的控制電源柜的輸出阻抗相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空感應(yīng)爐電源配置方法,其特征在于,所述將排列設(shè)置在所述坩堝外側(cè)壁上的每個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的電源接頭引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部,包括:
將所述每個獨(dú)立電加熱機(jī)構(gòu)的接頭作為電源接頭由所述真空感應(yīng)爐的真空密封法蘭板引出至所述真空感應(yīng)爐的真空空間外部。
聲明:
“真空感應(yīng)爐電源配置方法及加熱方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)