本實用新型提供了一種化學(xué)氣相沉積裝置,包括:化學(xué)氣相沉積室,氣體供給系統(tǒng);反應(yīng)氣體導(dǎo)流裝置,與氣體供給系統(tǒng)和化學(xué)氣相沉積室分別連通;包括導(dǎo)氣管,所述導(dǎo)氣管包括進(jìn)氣導(dǎo)管和出氣導(dǎo)管;所述出氣導(dǎo)管位于樣品放置室中,所述出氣導(dǎo)管沿氣流方向的末端封閉,管壁上設(shè)置導(dǎo)氣孔;等離子體發(fā)生器和/或加熱裝置;真空系統(tǒng),與化學(xué)氣相沉積室連通。所述化學(xué)氣相沉積裝置能夠很好的將反應(yīng)氣均勻的擴(kuò)散到樣品上,提高
復(fù)合材料的均勻性,同時有效提升反應(yīng)氣的利用率,有利于提高生產(chǎn)效率、降低成本,利用其制備得到的包覆硅的碳顆粒復(fù)合材料具有高容量、高首次效率及長壽命等特點。
聲明:
“化學(xué)氣相沉積裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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