本發(fā)明公開了一種二維碳化鈦@二氧化鈦納米片復合光催化材料及其制備方法,屬于無機納米
復合材料制備領域。以二維碳化鈦為基底,通過溶劑熱法在二維碳化鈦表面原位生長垂直的二氧化鈦納米片,在惰性氣氛下高溫煅燒,得到二維碳化鈦@二氧化鈦納米片復合光催化材料。二氧化鈦在光照下產生電子和空穴,碳化鈦提供電子傳輸通道,加速二氧化鈦導帶所生成的光生電子的轉移,提高電子?空穴分離效率;同時,二者間Ti?O?C鍵的形成有效減小半導體的禁帶寬度,增強二氧化鈦對可見光的吸收和利用;此外,復合材料超大的比表面積和開放的層狀結構,為污染物提供更多的接觸位點,有利于其吸附,進一步提高光催化效率。
聲明:
“二維碳化鈦@二氧化鈦納米片復合光催化材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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