本發(fā)明提供一種超薄磁屏蔽片材料及其制備方法。該超薄磁屏蔽片材料由鐵氧體、粘接劑、添加劑、表面活性劑制成,厚度為0.001-0.08mm;具體制備步驟包括:配料、混料、一次球磨、壓制成塊、預(yù)燒結(jié)、二次球磨、制漿、噴涂、二次燒結(jié),最終得到的超薄磁屏蔽片在13.56MHz下的復(fù)數(shù)磁導(dǎo)率為μ’=70-200,μ”≤3。該方法制備工藝簡(jiǎn)單可靠,成材率高,節(jié)能環(huán)保,且磁片厚度可以根據(jù)性能需求自由控制;采用該方法制備的超薄磁片,具有優(yōu)良的磁屏蔽性能,符合電磁
復(fù)合材料輕薄化、功能化、節(jié)能環(huán)保趨勢(shì)的發(fā)展要求,能夠滿足觸控屏、電子印刷等進(jìn)一步加工設(shè)計(jì)需求。
聲明:
“超薄磁屏蔽片材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)