本發(fā)明公開了一種光敏復(fù)合薄膜材料及其制備方法和應(yīng)用,多金屬氧化物和有機(jī)物;所述有機(jī)物高分子溶液濃度為10?3?10?2M;多金屬氧化物溶液的濃度為10?3?10?2M;所述制備方法包括:利用水熱法合成多金屬氧化物納米結(jié)構(gòu);將清洗的基片浸泡在高分子溶液中,使基片表面吸附一層高分子薄膜;將吸附有高分子薄膜的基片浸入含有多金屬氧化物納米結(jié)構(gòu)的溶液中浸泡,使其吸附一層多金屬氧化物薄膜;重復(fù)多次制備所需薄膜
復(fù)合材料。本發(fā)明電子傳導(dǎo)速率大大提升,提高了材料的光響應(yīng)速度,且光敏效果可以通過改變Mo的摻雜量來進(jìn)行調(diào)節(jié)。本發(fā)明操作簡(jiǎn)單快捷,而且得到的復(fù)合薄膜具有快速光響應(yīng)和高對(duì)比度的特點(diǎn),在快速精確地信息存儲(chǔ)中有極大地應(yīng)用前景。
聲明:
“光敏復(fù)合薄膜材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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