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高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法

749   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:02:46
本發(fā)明涉及光催化抗菌材料技術(shù)領域,且公開了一種高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜,包括以下配方原料及組分:WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料、硅烷偶聯(lián)劑、低密度聚乙烯、聚己二酸/對苯二甲酸丁二酯、抗氧化劑。該一種高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜,在有機蒙脫土表面生成納米TiO2,有效減少納米TiO2團聚和聚集,F(xiàn)e摻雜WO3和Ag3PO4共同修飾納米TiO2,F(xiàn)e摻雜增強了WO3在可見光吸收波段的光化學活性,TiO2光輻射下價帶上產(chǎn)生空穴與羥基基團或者水分子,生成羥基自由基,WO3導帶產(chǎn)生的光生電子與氧氣反應生產(chǎn)超氧自由基,破壞了微生物的生長和繁殖,聚乙烯包覆住WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料,使WO3?Ag3PO4?TiO2?蒙脫土復合材料均勻分散在聚己二酸/對苯二甲酸丁二酯中。
聲明:
“高強度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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