本發(fā)明公開了一種
石墨烯的化學圖形化方法,包括以下步驟:1)在石墨烯表面涂抹光阻材料;2)將步驟1)得到的光阻材料-石墨烯
復合材料曝光顯影,得到需要的圖形;3)將步驟2)得到的曝光顯影后的光阻材料-石墨烯復合材料送入反應裝置,將顯影暴露的石墨烯轉(zhuǎn)變?yōu)槭椋?)去除步驟3)得到的復合材料上的光阻材料,得到圖形化的石墨烯。本發(fā)明將需要圖形化的石墨烯部分進行保留,而將不需要的部分變成石墨烷,由于石墨烷不導電,所以不會影響石墨烯的導電性能,這樣既保證了石墨烯的功能性圖形化得以實現(xiàn),同時也保留了石墨烯加工的可逆性。本發(fā)明能夠做到大規(guī)模、高效率的對石墨烯進行圖形化。
聲明:
“石墨烯的化學圖形化方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)