本發(fā)明使用了用于電子器件的等電位源層,其中該等電位源層提供優(yōu)先注入該電子器件的活性層的帶電荷離子,從而該被注入的離子的電荷正負(fù)與應(yīng)用到該等電位源層的相對(duì)偏壓的正負(fù)相同。該源層可包括
復(fù)合材料離子摻雜劑注入層,其包括至少一種對(duì)離子具有相對(duì)高的擴(kuò)散系數(shù)的組分。該復(fù)合材料離子摻雜劑注入層可包括金屬性導(dǎo)電顆粒和離子支撐基質(zhì)。該復(fù)合材料離子摻雜劑注入層還可包括連續(xù)的金屬性導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)和離子支撐基質(zhì)。該金屬性網(wǎng)絡(luò)包括金屬性納米線(xiàn)或?qū)щ娂{米管。該離子支撐基質(zhì)包括導(dǎo)電聚合物。
聲明:
“摻雜劑注入層” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)