本發(fā)明公開了一種碳/氧化鎳/鎳圖案化微電極的制備工藝,包括以下步驟:1)中空氧化鎳納米球合成;2)光刻膠?氧化鎳納米球
復(fù)合材料微電極的圖案化:將中空氧化鎳納米球和光刻膠進(jìn)行機(jī)械攪拌和超聲處理,將所得混合物涂覆于電極基板上,再進(jìn)行光刻、顯影、潤洗;3)微電極高溫?zé)峤?。本發(fā)明創(chuàng)新性地利用光刻膠的光致抗蝕性,并以光刻膠中的感光樹脂為碳源與水熱法合成的中空氧化鎳納米球進(jìn)行復(fù)合,制得碳/氧化鎳/鎳圖案化微電極,實(shí)現(xiàn)了熱解碳?氧化鎳復(fù)合材料的微電極化目的,且所得微電極表現(xiàn)出良好的
電化學(xué)性能和機(jī)械性能,應(yīng)用前景廣闊。
聲明:
“碳/氧化鎳/鎳圖案化微電極的制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)