本發(fā)明涉及光選擇性吸收層及其制備方法,該光選擇性吸收層由在真空鍍膜技術(shù)下鐵鉻合金與非金屬氣體反應(yīng)沉積形成的
復(fù)合材料薄膜構(gòu)成,所述非金屬氣體優(yōu)選為包含氮和氧元素的氣體。本發(fā)明還涉及包含所述光選擇性吸收層的太陽能集熱元件或太陽能選擇性吸收涂層體系及其制備方法,以及所述復(fù)合材料薄膜作為太陽能集熱元件或太陽能選擇性吸收涂層體系的光選擇性吸收層的用途。
聲明:
“光選擇性吸收層及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)