本發(fā)明提供了兩種含化學(xué)氣相共沉積硼化鋯/鉿?硼化鉭的復(fù)合涂層及其制備方法。本發(fā)明是采用化學(xué)氣相沉積(CVD)方法制備了含有ZrB2?TaB2固溶體的共沉積復(fù)合涂層(Zr(Ta)B4),另一種含有HfB2?TaB2固溶體的共沉積復(fù)合涂層(Hf(Ta)B4),這兩種共沉積復(fù)合涂層比單一CVD?ZrB2涂層或CVD?HfB2具有更高的抗氧化和抗燒蝕性能。如具有Zr(Ta)B4復(fù)合涂層的C/C
復(fù)合材料在氧?乙炔中燒蝕60s后,其線燒蝕率由?11.8×10?4mm/s變?yōu)?.1×10?5mm/s,質(zhì)量燒蝕率由1.08×10?3g/s變?yōu)?.2×10?5g/s。其具有優(yōu)異的抗燒蝕性能,可作為石墨、碳基、陶瓷基復(fù)合材料的高溫保護(hù)涂層。
聲明:
“含化學(xué)氣相共沉積硼化鋯/鉿?硼化鉭的復(fù)合涂層及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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