本發(fā)明涉及形成
碳納米管架構(gòu)和
復合材料的方法和通過其形成的結(jié)構(gòu)。描述形成微電子器件的方法和關(guān)聯(lián)結(jié)構(gòu)。這些方法可以包括形成分層納米管結(jié)構(gòu)的方法,分層納米管結(jié)構(gòu)包括設置在納米管上的潤濕層、設置在潤濕層上的肖特基層、設置在肖特基層上的勢壘層、以及設置在勢壘層上的基體層。
聲明:
“形成碳納米管架構(gòu)和復合材料的方法和通過其形成的結(jié)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)