本發(fā)明提供一種高分子納米
復合材料的制備方法,包括:(1)溶解聚氯乙烯;(2)溶解聚乙烯;(3)溶解聚氯乙烯?聚乙烯嵌段共聚物;(4)向溶液中加入表面活性劑;(5)向溶液中加入光增透材料;(6)向溶液中加入增強材料;(7)將溶液進行超聲波混合;(8)將溶液進行旋蒸;本發(fā)明提供的新型高分子納米復合材料可以明顯降低指紋脊的反射率,從而指紋谷和脊反射率之比增加,使得超聲波指紋識別的效果得到明顯提升。
聲明:
“高分子納米復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)