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顆粒增強(qiáng)復(fù)合材料各組分就位性能測(cè)試方法

1051   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:01:02
本發(fā)明公開(kāi)了一種顆粒增強(qiáng)復(fù)合材料各組分就位性能測(cè)試方法,屬于微納米力學(xué)測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域。將被測(cè)顆粒增強(qiáng)復(fù)合材料鑲嵌、研磨、拋光,制成用于納米壓痕和納米劃痕的試樣。通過(guò)反饋調(diào)節(jié)方法,使得壓頭保持恒定的劃入深度完成一系列劃痕。以圓形區(qū)域中心點(diǎn)為零點(diǎn),建立包括全部劃痕路徑的直角坐標(biāo)系,將劃痕路徑上采集點(diǎn)的坐標(biāo)導(dǎo)入origin。通過(guò)接觸力學(xué)判斷準(zhǔn)則,獲得每條劃痕界面相的起始點(diǎn)和結(jié)束點(diǎn)位置,并將界面相的起始點(diǎn)和結(jié)束點(diǎn)依次連接成線,即可獲得界面相的形貌。本發(fā)明對(duì)微納米尺度材料進(jìn)行納米壓痕實(shí)驗(yàn)時(shí),可以有效的判斷典型區(qū)域一定深度下的界面相寬度,獲得無(wú)周邊效應(yīng)影響的顆粒增強(qiáng)復(fù)合材料各組分就位性能。
聲明:
“顆粒增強(qiáng)復(fù)合材料各組分就位性能測(cè)試方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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