本發(fā)明涉及光催化降解領(lǐng)域,公開(kāi)了一種氧化鋅納米盤(pán)及其制備、以及一種氧化鋅納米盤(pán)/
石墨烯復(fù)合材料及其制備方法。該復(fù)合材料的制備方法為將氧化鋅納米盤(pán)與石墨烯水溶液混合,超聲1~3h,抽濾即得;所述氧化鋅納米盤(pán)通過(guò)水熱法合成得到,制備氧化鋅納米盤(pán)的前驅(qū)體溶液由二甲基亞砜、醋酸鋅和蒸餾水組成;其中二甲基亞砜和蒸餾水的體積比為60~95:40~5;醋酸鋅的濃度為0.005~1mol/L。本發(fā)明制備得到的復(fù)合材料,既擁有石墨烯高電導(dǎo)的特點(diǎn),同時(shí)又兼具高效率光催化降解的功能。
聲明:
“氧化鋅納米盤(pán)/石墨烯復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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