本發(fā)明公開了硫化錸的制備以及硫化鎘/硫化錸
復(fù)合材料。采用常壓化學(xué)氣相沉積法,以硫粉為硫源,以三氧化錸為錸源,在惰性氣體保護(hù)下以及水輔助前提下,在云母片基底上生長二維單層二硫化錸;進(jìn)一步,通過二次生長的方法,在長有二維單層二硫化錸的云母片基底上再次沉積硫化鎘顆粒,得到在硫化錸表面生長有硫化鎘顆粒的CdS/ReS
2復(fù)合材料。本發(fā)明工藝簡單、成本低、快速、高效可控,制備得到高質(zhì)量單層硫化錸,硫化鎘沉積在二維材料硫化錸上得到的CdS/ReS
2復(fù)合材料更具有優(yōu)異的光電性能,應(yīng)用在光電器件上具有很高的響應(yīng)率。
聲明:
“硫化錸的制備以及硫化鎘/硫化錸復(fù)合材料” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)