本發(fā)明公開(kāi)了一種高光且具備電磁屏蔽功能的AS/PA9T
復(fù)合材料及其制備方法,特點(diǎn)是由以下原料及其重量份數(shù)組成:
石墨烯0.5?2.5份、碳納米纖維0.5?2.5份、分散劑3份、N?甲基吡咯烷酮100份、對(duì)苯二甲酸47.84?49.92份、壬二胺44.16?46.08份和AS純樹(shù)脂30份,其制備方法步驟如下:先將石墨烯、碳納米纖維復(fù)配,加入分散劑經(jīng)研磨得納米碳材料復(fù)配體;然后超聲震蕩分散在N?甲基吡咯烷酮中,分別加入對(duì)苯二甲酸和壬二胺進(jìn)行高速攪拌經(jīng)原位聚合反應(yīng)制得復(fù)合材料PA9T;將得到的復(fù)合材料PA9T與AS在高混機(jī)中共混得到PC/PA9T復(fù)合材料,優(yōu)點(diǎn)是高光澤度、耐高溫、耐摩擦、抗輻射。
聲明:
“高光且具備電磁屏蔽功能的AS/PA9T復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)