本發(fā)明涉及一種基于P/N異質(zhì)結(jié)協(xié)同消反射性能的硅/二氧化鈦三維
復(fù)合材料,依以下方法制備:(1)首先用堿液對(duì)硅片進(jìn)行各向異性刻蝕,在硅片表面形成緊密排列的四方錐形貌;(2)然后將步驟(1)刻蝕后的硅片進(jìn)行親水處理,在其表面生長(zhǎng)二氧化鈦晶種,并置于馬弗爐內(nèi)煅燒;(3)最后將步驟(2)中所得到的表面二氧化鈦晶種的硅片置于反應(yīng)釜中,采用水熱法得到的硅/二氧化鈦三維復(fù)合材料。本發(fā)明所涉及的復(fù)合材料兼具優(yōu)異消反射和高效分離光生電荷的能力,可以應(yīng)用到光催化、光電轉(zhuǎn)化器件和
太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。
聲明:
“基于P/N異質(zhì)結(jié)協(xié)同消反射性能的硅/二氧化鈦三維復(fù)合材料及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)