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金屬納米線和多孔氮化物復(fù)合材料半導(dǎo)體及其制備方法

819   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:36:01
一種金屬納米線和多孔氮化物復(fù)合材料半導(dǎo)體,包括:襯底;緩沖層,位于襯底之上;復(fù)合材料層,位于所述緩沖層之上,包括橫向多孔氮化物模板層,以及填充于其多孔中的金屬納米線,上述復(fù)合材料半導(dǎo)體的制備方法包括:步驟1:在襯底上生長制備緩沖層和n型氮化物外延層;步驟2:將步驟1所制備的n型氮化物外延層制成橫向多孔氮化物模板層;步驟3:在步驟2所制備的橫向多孔氮化物模板層的孔中制備金屬納米線,得到復(fù)合材料層,制成金屬納米線和多孔氮化物復(fù)合材料半導(dǎo)體,以緩解現(xiàn)有技術(shù)中半導(dǎo)體材料在光電化學(xué)反應(yīng)過程中易被腐蝕,利用局域表面等離子體增強效應(yīng)提高半導(dǎo)體內(nèi)部材料的光電特性時制備工藝復(fù)雜,易損傷體材料等技術(shù)問題。
聲明:
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