本發(fā)明公開了一種鎂基
復(fù)合材料EBSD測試試樣及其制備方法與應(yīng)用,屬于復(fù)合材料測試技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括:采用離子截面拋光儀對(duì)從鎂基復(fù)合材料切取的待測試樣進(jìn)行截面拋光;截面拋光包括粗拋處理和精拋處理;粗拋處理是于拋光電壓為4?7kV的條件下進(jìn)行3?8h,精拋處理是于1.5?3kV的條件下進(jìn)行6?15h。通過采用截面拋光的方式可在拋光后產(chǎn)生一個(gè)垂直于遮蔽板的全新表面,針對(duì)不同軟硬材質(zhì)混合的鎂基復(fù)合材料來說,該方式均能夠制備出完美光滑的截面,可滿足各種鎂基復(fù)合材料的EBSD測試需求,EBSD標(biāo)定率可達(dá)到90%以上。其中,粗拋可獲得較大面積的拋光區(qū)域,精拋可獲得更好的拋光質(zhì)量和更高的EBSD標(biāo)定率。
聲明:
“鎂基復(fù)合材料EBSD測試試樣及其制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)