本發(fā)明公開了一種
碳納米管/聚吡咯甲烯三階非線性光學
復合材料的制備方法,屬于非線性光學材料的制備領域。該制備方法包括以下步驟:將烷基胺修飾多壁碳納米管和3?酰基吡咯在酸性條件下混合后,再加入4?烷氧基苯甲醛,反應得到碳納米管/聚吡咯甲烷復合材料;再對制備的碳納米管/聚吡咯甲烷復合材料進行醌化處理,制得所述碳納米管/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料。本發(fā)明制備的碳納米管/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料不僅能夠均勻地分散在二氯甲烷、氯仿、甲苯等低沸點溶劑中,成膜性優(yōu)良,而且具有較窄的光學帶隙和較大的三階非線性光學極化率,在光調制器、變頻器和全光開關等領域具有廣闊的應用前景。
聲明:
“碳納米管/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)