本發(fā)明屬于光陰極保護材料領域,具體涉及一種用于光生陰極保護的二硫化鉬/二氧化錫/云母
復合材料及其制備方法。本發(fā)明以云母和五水合四氯化錫為原料,通過靜電吸附法將二氧化錫粒子負載在云母片上;然后以鉬酸鈉和硫代乙酰胺為原料通過一步水熱法使二硫化鉬原位生長于負載在云母片上的二氧化錫粒子縫隙中,得到具有特殊型貌的二硫化鉬/二氧化錫/云母復合材料,該結構不僅能大幅提高了復合材料的比表面積,而且該獨特型貌有利于二硫化鉬活性位點的暴露,能極大的增強導電速率,更有效防止了復合材料的光生電子與空穴的復合。在光生陰極保護上具有顯著的應用效果。
聲明:
“用于光生陰極保護的二硫化鉬/二氧化錫/云母復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)