本發(fā)明公開(kāi)了一種自潤(rùn)滑陶瓷基
復(fù)合材料的制備工藝,包括微弧氧化陶瓷層工藝和電泳沉積涂層工藝;微弧氧化電解液的組分及濃度為:Na2SiO3為4g/l,Na2WO3為4g/l,KOH為2g/l,以及EDTA?2Na為2g/l;微弧氧化的電參數(shù)為:正向電壓420v、負(fù)向電壓120v、電源頻率1500Hz、正向占空比60%;電泳沉積電解液的組分為:10%固體分的丙烯酸陽(yáng)極電泳漆、粒徑為40nm的MoS2的納米粒子、聚乙二醇,所述MoS2的納米粒子的濃度為10g/l;電泳沉積的電參數(shù)為:正向電壓360v、負(fù)向電壓0v、電源頻率20Hz、正向占空比5%。本發(fā)明采用先微弧氧化陶瓷層再電泳沉積涂層的工藝,確保陶瓷基復(fù)合材料良好的結(jié)合狀態(tài),制得具有減磨、自潤(rùn)滑性能的陶瓷基復(fù)合材料。
聲明:
“自潤(rùn)滑陶瓷基復(fù)合材料的制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)